吉盛微公司武汉碳化硅制造基地投产

IC创客 • 文章来源: 武汉经开区官微 • 2023-12-11 10:56 • 行业动态

12月8日，吉盛微公司武汉碳化硅制造基地在武汉经开综合保税区正式投产。

据悉，该项目总投资约15亿元，预计2027年达产，可实现年销售收入10亿元，填补武汉碳化硅半导体材料生产领域的空白。

资料显示，近年来，盛吉盛半导体致力于推动半导体设备和关键零部件国产化，已有多款设备和零部件交付国内龙头客户。今年3月，吉盛微（武汉）新材料科技有限公司在武汉经开区注册成立，主要研发、生产制造SiC材料、SiC基聚焦环、簇射极板及晶圆舟等碳化硅半导体产业链关键设备的零部件和耗材。目前，吉盛微已经完成了刻蚀、扩散、外延、快速热处理等多个工艺的零部件、耗材开发工作，部分产品填补了国内空白，初步具备稳定的生产供货能力。

本文转载并注明其他来源的稿件，是本着为读者传递更多信息的目的，并不意味赞同其观点或证实其内容的真实性。如有疑问，请联系695036288@qq.com。