荷兰加码对半导体设备出口限制,我国国产光刻机亟待突破

近期,在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下,荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。

荷兰加码对半导体设备出口限制,我国国产光刻机亟待突破

光刻机是制造芯片的核心装备,制造难度极大,国产光刻机仍较为落后。目前高端光刻机制造领域,全球只有少数几家公司能掌握。上海微电子已经能实现90nm量产(600系列光刻机),正在攻克28nm光刻机,与ASML的技术实力仍有较大差距,国产光刻机亟待突破。

在光刻机国产化道路上,零部件也是不可忽视的重要环节。在光刻机零部件中,KBBF晶体主要用来制造深紫外激光器,而光刻机就是深紫外激光器的高端应用市场。2013年,我国研制的全球首个深紫外固态激光器通过验收,成为当时全球唯一能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家,为国产DUV光刻机行业发展奠定坚实基础。而光学透镜则是保证光刻机高成像质量的关键组件,我国的茂莱光学的DUV光学透镜已经在给上海微电子供货,助力我国半导体光刻机国产化。

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