近期，在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下，荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。
光刻机是制造芯片的核心装备，制造难度极大，国产光刻机仍较为落后。目前高端光刻机制造领域，全球只有少数几家公司能掌握。上海微电子已经能实现90nm量产（600系列光刻机），正在攻克28nm光刻机，与ASML的技术实力仍有较大差距，国产光刻机亟待突破。
在光刻机国产化道路上，零部件也是不可忽视的重要环节。在光刻机零部件中，KBBF晶体主要用来制造深紫外激光器，而光刻机就是深紫外激光器的高端应用市场。2013年，我国研制的全球首个深紫外固态激光器通过验收，成为当时全球唯一能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家，为国产DUV光刻机行业发展奠定坚实基础。而光学透镜则是保证光刻机高成像质量的关键组件，我国的茂莱光学的DUV光学透镜已经在给上海微电子供货，助力我国半导体光刻机国产化。
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