浙江奥首 14nm 节点以上芯片光刻胶剥离液实现量产

近日,衢州经信消息显示,浙江奥首材料科技有限公司开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已实现量产。据介绍,该新产品2023年有望实现销售收入2000多万元。

据了解,近日,奥首开发的“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”通过了专家验收评审,专家们一致认为产品的技术水平已达到国际先进水平。

该新产品具有去胶能力强、清洗良率高、金属离子含量低、不含苯酚或氯化溶剂、金属蚀刻速率低等特点,主要应用于半导体芯片光刻图形化工艺后残留光刻胶的清洗领域,尤其是大规模集成电路14nm技术节点以上芯片光刻后的清洗。

奥首成立于2014年,专业从事集成电路和先进显示功能化学品研发生产,建有3000多平百级/千级洁净实验室、洁净中试车间及数十条自动化洁净生产线。目前已开发了集成电路的功能电子化学品产品50多种,部分产品可与美国杜邦、日本TOK、德国巴斯夫等同类产品相媲美,主要客户涵盖欧司朗、中芯、长电、华润等国内知名半导体企业。

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